演講主題:高科技產業揮發性有機物空氣污染管制及處理現況與案例探討
演講者:沈克鵬 博士
講座主持人:林明俊 老師
記錄者:吳政龍
記錄者指導教授:孫茂誠 教授
共同指導:李季燃 教授
日期:101/10/08(週一)15:10~17:00
高科技產業在製造過程中為確保品質,經常使用大量易揮發的有機溶劑清洗,其衍生的揮發性有機物(VOC),可能經由逸散或排放管道進入大氣環境中,加上高科技產業的群聚現象,故對環境造成相當大的負荷高科技業的處理技術回顧;未來 VOC 控制趨勢,從製程減廢、節能案例、空污費徵收的減量誘因、脫附技術的改進、使用者的設計需求、有害空氣污染物(HAPs)管制、安全認證(SEMIS2)需求的不斷提高、針對交期縮短、設備大型化、成本降低等實務上廠商所必須面對的難題、以及遭遇特殊天候時所需考量的設計需求等議題進行討論,冀望藉由相關資料彙整及實務經驗的心得報告,能對業界及相關的從業人員有所俾助。
高科技產業在生產製造過程中將產生各類型的空氣污染物,其中半導體產業常見之 VOC 污染來源,包括在光罩、顯影後光劑、顯影液、蝕刻液的清洗及後續晶元清洗等過程,使用丙酮、異丙醇、乙二醇等有機溶劑。光電產業常見之 VOC污染來源,包括於清洗與化學處理程序使用丙酮、異丙醇,黃光區之曝光顯影程序時使用光阻劑、HMDS、異丙醇、二甲苯、醋酸丁酯等。
取自:工業污染防治第106 期(Apr. 2008)
隨著高科技的產業蓬勃發展,對於如何保護環境的議題也逐漸變多,該如何在科技的時代裡,保護地球愛護地球靠的就是已發生的案例檢討以及法規的制訂。
高科技產業在生產製造過程中將產生各類型的空氣污染物,其中半導體產業常見之 VOC 污染來源,包括在光罩、顯影後光劑、顯影液、蝕刻液的清洗及後續晶元清洗等過程,使用丙酮、異丙醇、乙二醇等有機溶劑。光電產業常見之 VOC污染來源,包括於清洗與化學處理程序使用丙酮、異丙醇,黃光區之曝光顯影程序時使用光阻劑、HMDS、異丙醇、二甲苯、醋酸丁酯等。
取自:工業污染防治第106 期(Apr. 2008)
隨著高科技的產業蓬勃發展,對於如何保護環境的議題也逐漸變多,該如何在科技的時代裡,保護地球愛護地球靠的就是已發生的案例檢討以及法規的制訂。